Baolishi Grinding Technology (Changzhou) Co., Ltd. produtos on-line

Os blocos de lixamento de esponja POLISHER apresentam um design de amortecimento de espuma de alta densidade com excelente conformabilidade, boa resistência ao desgaste e acabamento de lixamento uniforme. A opção de padrão de grade texturizado garante abrasão consistente – adequada para lixamento de contorno a seco e úmido.

As almofadas de polimento POLISHER CMP suportam planarização de wafer em nanoescala para fabricação de semicondutores e 3C. Um sistema completo de três estágios – almofadas de poliuretano vermelho, não tecido branco e tecido umedecido preto – é compatível com pastas de alumina, sílica e diamante.

POLISHER Conditioned Fabric Pad (Black) é a etapa final do CMP para superfícies perfeitas em chips semicondutores e vidro óptico. Combina fricção física com ação química, com dureza, densidade e elasticidade controlando resultados de polimento precisos.

A almofada não tecida branca POLISHER oferece precisão de grossa a fina para planarização de wafer CMP. A base especialmente tratada proporciona alta absorção e remoção uniforme de safira, silício e cobre - um substituto direto para as pastilhas da série SUBA 600/800.

O composto de polimento POLISHER G-12 usa abrasivos importados premium para acabamento espelhado em ligas de alumínio e rodas de aço inoxidável. Oferece excelente desempenho de corte, tamanho de partícula uniforme e rápido aprimoramento de brilho para polimento de cubos de rodas.

A almofada de polimento de poliuretano POLISHER (vermelha) é o carro-chefe para polimento grosso em processos CMP. Oferece desbaste poderoso para wafers de safira e silício, compatível com pastas de alumina, sílica, carboneto de silício e diamante.

O composto de polimento POLISHER P211 elimina rapidamente marcas de lixa em torneiras de cobre fundido com uma fórmula que não separa. Oferece excelente capacidade de corte, resultado de alto brilho e fácil limpeza para fabricação de louças sanitárias.

O composto de polimento POLISHER P228 usa abrasivos importados e uma fórmula proprietária para polimento espelhado de peças fundidas de liga de cobre-zinco. Oferece excelente poder de corte, tamanho de partícula uniforme e rápido desenvolvimento de brilho para louças sanitárias.

O composto de polimento POLISHER P227-4/P227-4F oferece uma fórmula que não separa, forte poder de corte e um acabamento de alto brilho para acabamentos externos de metal automotivo. Atinge uma taxa de aprovação de mais de 95% em barras de tejadilho, molduras de acabamento, rodas e pontas de escape.

As rodas de polimento POLISHER para ferragens e liga de alumínio oferecem opções de rodas de pano para vento forte, moinho de vento e jateamento em vários tecidos e tamanhos. A construção refrigerada a ar proporciona polimento consistente e suave para superfícies de metal e alumínio.

O POLISHER P0310 Polishing Liquid usa um sistema à base de permanganato de potássio com abrasivos de alumina importados (300nm) para polimento de wafer de SiC. Oferece alta eficiência de polimento e planarização em nanoescala para fabricação de semicondutores.

POLISHER P1532 Alumina Slurry usa abrasivos de alumina importados (1,5um) para polimento de safira de alta eficiência. Oferece excelente dispersão e fácil limpeza, tornando-o ideal para processamento em estágio intermediário na fabricação de safira.