Baolishi Grinding Technology (Changzhou) Co., Ltd. produtos on-line

POLISHER A-2 Polishing Wax é uma cera de polimento de espelho de máquina para polimento fino de aço inoxidável e liga de alumínio da série 7. Oferece forte poder de corte, acabamento sem riscos e sem resíduos para aplicações em ligas 3C, alumínio e titânio.

A cera de polimento POLISHER D-24 é uma alternativa nacional completa às ceras importadas para polimento fino de ligas de titânio, aço inoxidável e joias. Oferece teor moderado de óleo, saída rápida de brilho e acabamento sem riscos com alta versatilidade.

A cera de polimento POLISHER D-36 usa uma formulação idêntica ao japonês como substituto direto da cera importada. Oferece forte poder de corte, saída de brilho rápida e acabamento sem riscos para joias de liga de titânio, aço inoxidável, ouro e prata.

A Cera de Polimento POLISHER P229-3-11 é uma cera média-grossa atualizada, comparada à Cera de Polimento GW 16. Oferece excelente poder de corte, acabamento sem riscos e rápido desenvolvimento de brilho em acabamentos pintados, acrílico, resina fenólica e bilhar.

A cera de alto brilho POLISHER P08 utiliza graxas importadas e abrasivos customizados para polimento de precisão de liga de titânio e aço inoxidável. Oferece força de corte poderosa, acabamento espelhado rápido e evita efetivamente corrosão em liga de titânio.

Os blocos de lixamento de esponja POLISHER apresentam um design de amortecimento de espuma de alta densidade com excelente conformabilidade, boa resistência ao desgaste e acabamento de lixamento uniforme. Uma opção de superfície texturizada garante abrasão consistente — adequada para lixamento de contornos secos e úmidos.

Os bastões de desbaste de diamante POLISHER e as cintas abrasivas oferecem uma corrente completa de polimento grosso com grãos de diamante de alta pureza. Eles duram de 3 a 5 vezes mais do que as ferramentas tradicionais, reduzem custos, reduzem a poeira e são ideais para FRP, pás de turbinas eólicas, moldes e ligas duras.

Os blocos de lixamento de esponja POLISHER apresentam um design de amortecimento de espuma de alta densidade com excelente conformabilidade, boa resistência ao desgaste e acabamento de lixamento uniforme. A opção de padrão de grade texturizado garante abrasão consistente – adequada para lixamento de contorno a seco e úmido.

As almofadas de polimento POLISHER CMP suportam planarização de wafer em nanoescala para fabricação de semicondutores e 3C. Um sistema completo de três estágios – almofadas de poliuretano vermelho, não tecido branco e tecido umedecido preto – é compatível com pastas de alumina, sílica e diamante.

POLISHER Conditioned Fabric Pad (Black) é a etapa final do CMP para superfícies perfeitas em chips semicondutores e vidro óptico. Combina fricção física com ação química, com dureza, densidade e elasticidade controlando resultados de polimento precisos.

A almofada não tecida branca POLISHER oferece precisão de grossa a fina para planarização de wafer CMP. A base especialmente tratada proporciona alta absorção e remoção uniforme de safira, silício e cobre - um substituto direto para as pastilhas da série SUBA 600/800.

O composto de polimento POLISHER G-12 usa abrasivos importados premium para acabamento espelhado em ligas de alumínio e rodas de aço inoxidável. Oferece excelente desempenho de corte, tamanho de partícula uniforme e rápido aprimoramento de brilho para polimento de cubos de rodas.