Líquido de polimento SiC P0310 - Planarização de wafer em nanoescala | POLIDOR

Descrição do produto

P0310 Líquido de Polimento de Semicondutor / SiC

Sistema à Base de Permanganato de Potássio para Planarização de Wafer de SiC em Nan escala

POLIDOR O P0310 Polishing Liquid é formulado especificamente para o polimento de wafers de carboneto de silício (SiC), combinando um sistema à base de permanganato de potássio com abrasivos de alumina importados para alcançar alta eficiência de polimento e planarização em nan escala.

Principais Características:

• Sistema de Permanganato de Potássio – Formulação químico-mecânica projetada especificamente para os requisitos exigentes do processamento de wafers de SiC
• Abrasivos de Alumina Importados – Partículas de alumina de alta qualidade garantem remoção de material consistente e confiável
• Alta Eficiência de Polimento – Proporciona processamento rápido e eficaz, mantendo a integridade da superfície
• Planarização em Nan escala – Alcança o acabamento de superfície ultraplano necessário para aplicações avançadas de semicondutores
• Desempenho Consistente – Formulação confiável de tamanho de grão de 300nm para resultados repetíveis e de alta precisão

Especificações:

• Pigmento: Roxo
• Tipo de Abrasivo: Alumina
• Tamanho do Grão: 300nm
• Sistema: Permanganato de Potássio

Aplicações:
Projetado especificamente para o polimento de wafers de carboneto de silício (SiC) na fabricação de semicondutores — ideal para aplicações que exigem remoção de material de alta eficiência e planarização de superfície em nan escala.

Certificações: Fabricado sob a certificação do Sistema de Gestão da Qualidade ISO9001.