P0310 Líquido de pulido de SiC - Planarización de obleas a nanoescala | PULIDORA

Descripción de producto

Líquido de pulido de semiconductores / SiC P0310

Sistema a base de permanganato de potasio para la planarización de obleas de SiC a nanoescala

PULIDORAEl líquido de pulido P0310 está formulado específicamente para pulir obleas de carburo de silicio (SiC), combinando un sistema a base de permanganato de potasio con abrasivos de alúmina importados para lograr una alta eficiencia de pulido y planarización a nanoescala.

Características principales:

• Sistema de permanganato de potasio – Formulación químico-mecánica diseñada específicamente para los exigentes requisitos del procesamiento de obleas de SiC
• Abrasivos de alúmina importados – Partículas de alúmina de alta calidad garantizan una eliminación de material consistente y fiable
• Alta eficiencia de pulido – Ofrece un procesamiento rápido y eficaz manteniendo la integridad de la superficie
• Planarización a nanoescala – Logra el acabado superficial ultraplano requerido para aplicaciones avanzadas de semiconductores
• Rendimiento consistente – Formulación fiable de tamaño de grano de 300 nm para resultados repetibles y de alta precisión

Especificaciones:

• Pigmento: Morado
• Tipo de abrasivo: Alúmina
• Tamaño de grano: 300 nm
• Sistema: Permanganato de potasio

Aplicaciones:
Diseñado específicamente para pulir obleas de carburo de silicio (SiC) en la fabricación de semiconductores — ideal para aplicaciones que requieren una eliminación de material de alta eficiencia y una planarización de superficie a nanoescala.

Certificaciones: Fabricado bajo la certificación del Sistema de Gestión de Calidad ISO9001.