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P0310 SiC 연마액 - 나노스케일 웨이퍼 평탄화 | 폴리셔
제품 요약
POLISHER P0310 연마액은 SiC 웨이퍼 연마를 위해 수입 알루미나 연마재(300nm)와 함께 과망간산칼륨 기반 시스템을 사용합니다. 반도체 제조를 위한 높은 연마 효율과 나노 수준의 평탄화를 제공합니다.
Product Custom Attributes
제품명:
POLISHER - P0310 반도체/SiC 연마액
형태:
화합물 또는 액체
1 차 사용:
표면 마무리 및 연마
높은 효과:
예
유형:
연마 연마 재료
보관조건:
서늘하고 건조한 곳에 보관하세요
기본 속성
원래 장소:
중국
브랜드 이름:
POLISHER
인증:
ISO 9001 Quality Management System, ISO 14001 Environmental Management System, ISO 45001 Occupational Health and Safety
모델 번호:
P0310
제품 설명
P0310 반도체 / SiC 롤링 액체
나노 스케일 SiC 웨이퍼 평면화를 위한 칼륨 페르만가나트 기반 시스템
폴리셔P0310 폴리싱 액체는 실리콘 카바이드 (SiC) 웨이퍼를 폴리싱하기 위해 특별히 만들어졌습니다.높은 닦기 효율과 나노 스케일 평형화를 달성하기 위해 수입 알루미나 가열제와 칼륨 페르만가나트 기반 시스템을 결합하는 것.
주요 특징:
- 칼륨 페르만가나트 시스템- 화학-기계 조립물 특히 SiC 웨이퍼 가공의 까다로운 요구 사항에 맞게 설계
- 수입 알루미나 가열재고품질의 알루미나 입자가 일관성 있고 신뢰할 수 있는 물질 제거를 보장합니다
- 높은 닦기 효율성표면 무결성을 유지하면서 빠르고 효과적인 처리를 제공합니다.
- 나노 스케일 평면화고급 반도체 애플리케이션에 필요한 초평한 표면 마무리
- 일관성 있는 성과신뢰성 있는 300nm 곡물 크기의 포뮬레이션으로 반복 가능하고 높은 정밀도를 얻을 수 있습니다.
사양:
- 색소: 보라색
- 가려움기 종류: 알루미나
- 곡물 크기: 300nm
- 시스템: 칼륨 페르만가나트
응용 프로그램:
반도체 제조에서 실리콘 카바이드 (SiC) 웨이퍼를 닦기 위해 특별히 설계되었습니다.
인증서:의 생산ISO9001품질 관리 시스템 인증
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