Đánh bóng phẳng hóa cơ hóa học (CMP)
Tóm tắt sản phẩm
Làm phẳng cơ học hóa học (CMP) là một quá trình kết hợp ăn mòn hóa học và mài cơ học, chủ yếu được sử dụng để làm phẳng các bề mặt wafer ở cấp độ nano trong sản xuất chất bán dẫn và điện tử 3C. Miếng đánh bóng Baolishi CMP được thiết kế đặc biệt cho các quy trình CMP trên các vật liệu như tấm ...
Product Custom Attributes
Mô tả sản phẩm
Làm phẳng cơ học hóa học (CMP)
là một quá trình kết hợp ăn mòn hóa học và mài cơ học, chủ yếu được sử dụng để làm phẳng các bề mặt wafer ở cấp độ nano trong sản xuất chất bán dẫn và điện tử 3C.
Miếng đánh bóng Baolishi CMP được thiết kế đặc biệt cho các quy trình CMP trên các vật liệu như tấm sapphire và silicon. Dòng sản phẩm bao gồm ba loại chính:
· Miếng đệm màu đỏ Polyurethane: Để đánh bóng thô.
· Miếng đệm trắng không dệt: Dùng để đánh bóng trung gian.
· Miếng vải đen ẩm: Để đánh bóng tốt/cuối cùng.
Những miếng đệm này tương thích với nhiều loại vữa đánh bóng khác nhau, bao gồm alumina, ceria, silica, cacbua silic và kim cương. Hiệu suất được xác minh dữ liệu để giúp nâng cao chất lượng và hiệu quả trong ngành sản xuất chất bán dẫn và sản xuất chính xác.
Liên hệ với các chuyên gia của chúng tôi và có được một tư vấn miễn phí!
Sứ mệnh của chúng tôi là cung cấp "Chất lượng cao" & "Dịch vụ tốt" & "Giao hàng nhanh" để giúp khách hàng của chúng tôi tăng thêm lợi nhuận.
