Tampon non tissé blanc – Solution CMP polyvalente à mi-étape | POLISSEUR

Description de produit

Tampon blanc non tissé : la solution polyvalente de mi-étape

POLISSEUSETampon blanc CMP — Précision du grossier au fin

POLISSEUSELe tampon blanc non tissé est un consommable clé pour la planarisation des plaquettes dans les processus de planarisation mécano-chimique (CMP), conçu avec une base non tissée spécialement traitée pour une absorption élevée et un retrait uniforme du matériau.

Caractéristiques principales :

• Base non tissée spécialement traitée– La technologie des matériaux conçus offre une absorption élevée et un retrait uniforme du matériau sur toute la surface de la plaquette
• Performance polyvalente de mi-étape– Performance de précision reliant les étapes de polissage grossier et de finition fine
• Remplacement direct– Alternative entièrement compatible aux tampons des séries SUBA 600/800, simplifiant le changement de chaîne d'approvisionnement
• Large compatibilité matérielle– Convient pour le saphir, les plaquettes de silicium et les couches de cuivre pour le polissage du grossier au fin
• Finition de précision– Répond aux besoins exigeants de finition de précision pour les lentilles en saphir et les substrats en silicium

Rôle dans le processus CMP :
Sert de consommable clé pour la planarisation des plaquettes, positionné comme la solution polyvalente de mi-étape entre les tampons polyuréthane grossiers et les tampons en tissu amortis fins.

Applications :
Idéal pour le polissage des couches de saphir, de plaquettes de silicium et de cuivre dans la fabrication de semi-conducteurs et de précision — prenant en charge le traitement du grossier au fin dans une solution de tampon unique.

Certifications :Fabriqué sous la certification du système de gestion de la qualité ISO9001.