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品質 調整済みファブリックパッド (ブラック) - 最終 CMP 研磨ステップ |ポリッシャー 工場
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品質 調整済みファブリックパッド (ブラック) - 最終 CMP 研磨ステップ |ポリッシャー 工場
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調整済みファブリックパッド (ブラック) - 最終 CMP 研磨ステップ |ポリッシャー

製品概要

POLISHER コンディショニング済みファブリック パッド (ブラック) は、半導体チップと光学ガラスの表面を完璧に仕上げるための最終 CMP ステップです。物理的摩擦と化学的作用を組み合わせ、硬度、密度、弾性により正確な研磨結果を制御します。

Product Custom Attributes

製品名:
磨くパッド
洗える:
はい
起源:
中国
色:
再利用可能:
はい
材料:
ファブリック

基本特性

起源の場所:
中国
ブランド名:
POLISHER
証明:
ISO 9001 Quality Management System, ISO 14001 Environmental Management System, ISO 45001 Occupational Health and Safety

製品の説明

条件付き 織物 パッド (黒) 完璧 な 表面 の 最終 ステップ

CMP 湿った布の磨きパッド 究極の表面完璧のために

ポーラーコンディショナブル・ファブリック・パッド (ブラック) は,半導体チップや光学ガラスなどの精密材料のための化学機械平面化 (CMP) の主要な消費品である.欠陥のない方向への最後のステップを届け欠陥のない表面.

主要な特徴:

  • 双作用平面化表面の精度を向上させるため,物理的摩擦と化学的作用を組み合わせて平面化を実現する
  • ポリウレタン 建築常時耐久性のあるポリマー材料で製造され,一貫して信頼性の高い最終段階の性能を保ちます
  • 精密な性能制御硬さ,密度,孔の大きさ,弾性などの主要なパラメータは,磨き結果と除去速度を直接制御します
  • 最終 段階 の 完成CMPプロセスチェーンにおける最後のステップとして位置づけられ,究極の表面の完璧性を提供します
  • 精密材料の互換性半導体チップや光学ガラスのような 要求の高い材料に特化した

CMP プロセスにおける役割
CMP加工の最終調理段階として,粗いポリウレタンと中間段階の非織物パッドに従って,欠陥のない,損傷のない仕上げを提供します.

応用:
半導体チップと光学ガラス仕上げに最適 究極の表面完璧と精密な平面化を必要とするアプリケーションの最終ステップ

認証:ISO9001 品質管理システム認証で製造されています

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