La dernière étape vers des surfaces parfaites
Résumé du produit
La dernière étape vers des surfaces parfaites Pad de polissage de tissu humide CMP: pour une perfection de surface ultime · Rôle: un ingrédient clé dans les CMP pour les matériaux de précision (puces semi-conducteurs, verre optique). · Comment fonctionne-t-il: Il obtient une planarisation en ...
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Description de produit
La dernière étape vers des surfaces parfaites
Pad de polissage de tissu humide CMP: pour une perfection de surface ultime
· Rôle: un ingrédient clé dans les CMP pour les matériaux de précision (puces semi-conducteurs, verre optique).
· Comment fonctionne-t-il: Il obtient une planarisation en combinant le frottement physique avec l'action chimique.
· Matériau: généralement constitué de polymères tels que le polyuréthane.
· Moteurs de performance: les paramètres clés (dureté, densité, taille des pores, élasticité) contrôlent directement les résultats de polissage et le taux d'élimination.
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